HEDP 하이드 록시에 틸리 덴 디포 스폰 산

HEDP (2010 년 요청)

표준 데이터
CAS 번호 : 2809-21-4
EINECS 번호 : 220-552-8
분자식 : C2H8O7P2
몰 중량 : 206.03 g / mol
활성 성분 : 58,0-62,0 %
염화물 : 최대 0.3 %
철 : 최대 10ppm
물리적 상태 : 황색 액체
융점 : -25 C
비중 1,43-1,46
물에 대한 용해도 : 혼 화성
점화 : pH <2 (1 % 용액)
다른 이름 : Etidronic acid

일반 정보

화학식 C2H8O7P2를 갖는 하이드 록시 프로필 리덴으로 알려진이 물질은 산 유형 중성 pH 기반 제형에 바람직하다. 다가 금속 이온과 안정한 수용성 착물을 형성함으로써, 포스 포 네이트는 금속 이온의 정상적인 반응을 억제함으로써 바람직하지 않은 효과를 방지한다. 그것은 모든 비율로 물과 혼화 가능하며 다가 양이온과 강한 착화 능력을 가지고 있습니다. 철, 구리, 망간 및 아연과 같은 전이 금속에 탁월한 착화 제. 고순도 제품은 일관된 고품질 요구 사항을 충족하도록 생산 및 테스트됩니다. 산소 표백 조건에서 안정적입니다.

생산 및 반응

AMP 및 ATMP는 폴리 포스페이트 제제 중 다른 화학 물질과 함께 적합한 조건 하에서 수득 될 수있다.

사용 영역

물
산업용 수처리 시스템 및 수계에서 수계의 금속 이온을 제어하는 ​​격리 장치로 사용됩니다. 수영장에서 내염 소성을 제공합니다.

금속
금속 가공 공정 (안티 칼란 트, 방청제, 킬 레이터, 슬러리 에어 컨디셔너, 펄프 표백제, 탈취제, 분배기, 금속 세정제, 갈바닉 및 결정 성장 조절제)의 첨가제로 사용됩니다.

농업
이 화학 비료는 농약 및 토양 비옥도와 같은 농업 화학 물질의 주요 응용 분야 외에도 부식 방지 응용 분야에 사용됩니다.

화학
알칼리 환경에서 과산화물 결합의 안정화에 사용됩니다. 또한 표백제와 같은 화학 물질의 안정 제로도 사용됩니다.

화장품
이 부문에서는 머 캅탄기를 함유하는 모발 화장품의 착화 제 (예 : 티오 글리콜 산, 티오 락트산)로 사용됩니다.